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真空鍍膜機HiPIMS技術代表的是高功率脈沖磁控濺射，常見磁控濺射技術廣泛應用于薄膜制備領域，裝飾鍍膜應用領域和工具鍍膜應用都比較常見，但磁控濺射處理技術有很多的局限性，例如磁控濺射靶功率密度受靶熱負荷的限制，即當濺射電流較大時，過多的正離子對靶進行轟擊可能使濺射靶過熱而燒損，濺射的能量有限金屬離化率不高等問題。近年來國內外發展起來了一種高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS))技術，大大弱化了這種限制。高功率脈沖磁控濺射的峰值功率是普通磁控濺射的100倍左右，濺射材料離化率極高，且這個高度離子化的束流不含大顆粒，正因如此HiPIMS可以很容易得到高質量的膜層。
